Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования и контроля топологических структур на фотошаблонах

Прецизионные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Генератор изображений на полупроводниковых пластинах

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Cварка пластин

Предзащита ИС

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты
Сферические линзы
Асферические детали
Призмы
Клинья
Плоскопараллельные детали
Растровые компоненты
Моллированные отражатели
Вакуумные столики
Антиотражающие покрытия
Зеркала
Светоделители
Изделия, изготовленные методом фотолитографии

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Сферические линзы: плосковогнутые, плосковыпуклые, двояковыпуклые, двояковогнутые, выпукло-вогнутые (мениск)


Материал BK 7, качественное оптическое стекло, кварцевое стекло
Диаметр 3÷500 мм
Толщина по центру 1÷60 мм
Допуск диаметра +0/-0.1 мм
Допуск толщины по центру ±0.1 мм
Точность поверхности ≤ 3 интерференционным полосам (1,2λ) – местная ошибка,
0,3 интерференционной полосы (λ/8) – при λ=632,8 нм
Качество поверхности Царапины шириной 0,006мм суммарной длиной 2х на рабочую аппертуру
Децентрировка ≤ 3 угловых мин.
Фаски Типовые 0÷0.6 мм под углом 450±150
Рабочая аппертура ≥ 90% диаметра
Антиотражающее покрытие Однослойный фторид магния (MgF2)
для широкого диапазона, для лазерных длин
Рабочая длина волны 210-2100 нм
Допустимое отклонение фокуса при λ=632,8 нм ±1%
Очистка Рекомендуется неабразивный метод,
ацетон или изопропиловый спирт на ткани
Лучевая стойкость AR покрытие: 100Вт/см2 CW, 2 Дж/см2 при импульсе 10 нсек

English version
ПЛАНАР
Открытое акционерное общество «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование