Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования и контроля топологических структур на фотошаблонах

Прецизионные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Генератор изображений на полупроводниковых пластинах

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Cварка пластин

Предзащита ИС

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты
Сферические линзы
Асферические детали
Призмы
Клинья
Плоскопараллельные детали
Растровые компоненты
Моллированные отражатели
Вакуумные столики
Антиотражающие покрытия
Зеркала
Светоделители
Изделия, изготовленные методом фотолитографии

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Изделия, изготовленные методом фотолитографии

ГлавнаяПродукцияМикроскопия, оптикаОптические компоненты › Изделия, изготовленные методом фотолитографии

Прецизионные фотошаблоны для изготовления ГИС и СБИС, испытаний и аттестации погрешности оптико-механического и контрольно-измерительного оборудования

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл
Размер подложки до 305x305 мм
Топология произвольная
Погрешность расположения
элементов топологии на поле
280х280 мм - ±1мкм
140х140 мм - ±0,5мкм
Минимальный элемент на поле 100х100мм – 1мкм
200х200мм – 1,5мкм
Погрешность аттестации на поле 140х140мм – 0,16мкм

Сетки отсчётные и визирные шкалы, тест-объекты для оптических приборов и микроскопов

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл
Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны
Топология произвольная
Минимальный элемент 0,7 мкм
Погрешность аттестации 0,16мкм
Стандартные линейные, радиальные и специальные миры

Предназначены для определения и проверки разрешающей способности, глубины резкости оптических систем технологического оборудования, объективов оптических приборов, фотографических объективов и материалов, фотографических и фотолитографических процессов.

Изображение светлое или тёмное поле
Топология произвольная
Минимальный элемент 0,7 мкм
Рабочее поле до 140х140мм
Радиальные лимбы и диски кодовые (растровые), анализирующие маски и диафрагмы

Применение: датчики угла поворота станков с ЧПУ, технологического и контрольно-измерительного оборудования.

Материал подложки оптическое стекло
Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны
Диаметр оптических деталей 6-280мм
Дискретность нанесения штрихов 6"
Для кодовых лимбов до 13 разрядов
Стандартные стеклянные штриховые меры длины и растровые линейные шкалы

Применение: для аттестации оптико-механического, контрольно-измерительного, специального технологического и других типов оборудования и приборов, в датчиках линейных перемещений станков с ЧПУ и другом спецтехнологическом оборудовании.

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл
Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны
Длина шкал до 630мм – однокоординатных или
поле 260х260мм двух координатных
Минимальный размер штрихов 2мкм
Период растровых шкал 4мкм и более

English version
ПЛАНАР
Открытое акционерное общество «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование