Изделия, изготовленные методом фотолитографии

Прецизионные фотошаблоны для изготовления ГИС и СБИС, испытаний и аттестации погрешности оптико-механического и контрольно-измерительного оборудования

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл Размер подложки до 305x305 мм Топология произвольная Погрешность расположения элементов топологии на поле 280х280 мм - ±1мкм 140х140 мм - ±0,5мкм Минимальный элемент на поле 100х100мм – 1мкм 200х200мм – 1,5мкм Погрешность аттестации на поле 140х140мм – 0,16мкм

Сетки отсчётные и визирные шкалы, тест-объекты для оптических приборов и микроскопов

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны Топология произвольная Минимальный элемент 0,7 мкм Погрешность аттестации 0,16мкм

Предназначены для определения и проверки разрешающей способности, глубины резкости оптических систем технологического оборудования, объективов оптических приборов, фотографических объективов и материалов, фотографических и фотолитографических процессов.

Изображение светлое или тёмное поле Топология произвольная Минимальный элемент 0,7 мкм Рабочее поле до 140х140мм

Применение: датчики угла поворота станков с ЧПУ, технологического и контрольно-измерительного оборудования.

Материал подложки оптическое стекло Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны Диаметр оптических деталей 6-280мм Дискретность нанесения штрихов 6" Для кодовых лимбов до 13 разрядов

Применение: для аттестации оптико-механического, контрольно-измерительного, специального технологического и других типов оборудования и приборов, в датчиках линейных перемещений станков с ЧПУ и другом спецтехнологическом оборудовании.

Материал подложки оптическое стекло, кварц, ситалл Покрытие хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны Длина шкал до 630мм – однокоординатных или поле 260х260мм двух координатных Минимальный размер штрихов 2мкм Период растровых шкал 4мкм и более