Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования и контроля топологических структур на фотошаблонах

Прецизионные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Генератор изображений на полупроводниковых пластинах

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Cварка пластин

Предзащита ИС

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты
Сферические линзы
Асферические детали
Призмы
Клинья
Плоскопараллельные детали
Растровые компоненты
Моллированные отражатели
Вакуумные столики
Антиотражающие покрытия
Зеркала
Светоделители
Изделия, изготовленные методом фотолитографии

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Широкополосные многослойные антиотражающие покрытия


Материал подложки: ВК 7 и кварцевое стекло
Очистка: Рекомендуется неабразивный метод, ацетон или изопропиловый спирт на ткани
Лучевая стойкость:
100 Вт/cм2 CW, 1 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 325±25 нм
100 Вт/cм2 CW, 2  Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 532 нм
100 Вт/cм2 CW, 2 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 1064 нм
100 Вт/cм2 CW, 2 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 1064 нм

Диапазон длин волны (нм) Рабочая длина волны (нм) Отражательная способность Угол падения
245-440 320 Ravg<0.5%,Rmax<1.0% 0-15o
430-700 530 Ravg<0.5%,Rmax<1.5% 0-15o
650-1000 790 Ravg<0.5%,Rmax<1.5% 0-15o
1000-1150 1210 Ravg<0.5%,Rmax<1.5% 0-15o
Лазерные антиотражающие V-покрытия

Материал подложки: ВК 7 и кварцевое стекло
Очистка: Рекомендуется неабразивный метод, ацетон или изопропиловый спирт на ткани
Лучевая стойкость:
100 Вт/cм2 CW, 1 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 488/514.5 нм
100 Вт/cм2 CW, 1 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 532 нм
1000 Вт/cм2 CW
100 Вт/cм2 CW, 1 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 694 нм
100 Вт/cм2 CW, 1 Дж/см2 @ 10 нсек импульсах @ 1064 нм

Рабочая длина волны (нм) Отражательная способность Угол падения
488-514.5 Rmax<0.25% 0-15°
532 Rmax<0.25% 0-15°
632.8 Rmax<0.25% 0-15°
694 Rmax<0.25% 0-15°
1064 Rmax<0.25% 0-15°

English version
ПЛАНАР
Открытое акционерное общество «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование