Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования и контроля топологических структур на фотошаблонах

Прецизионные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Генератор изображений на полупроводниковых пластинах

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов
ЭМ-4585
ЭМ-4105M
ЭМ-4685
ЭМ-4505
ЭМ-4336
ЭМ-4025АМ3
ЭМ-4075А-1

Монтаж выводов

Cварка пластин

Предзащита ИС

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Установка присоединения кристаллов ЭМ-4025АМ3


Установка присоединения кристаллов ЭМ-4025АМ3 предназначена для монтажа полупроводниковых кристаллов и компонентов методом эвтектической пайки, монтажа на клей и припой при сборке ИС, многокристальных приборов, ГИС, СВЧ-приборов и других изделий электронной техники.

Установка оснащена 8-инструментальной револьверной головкой, нагреваемым рабочим столом с двумя зонами нагрева, пневмодозатором для нанесения клея. Привод вертикального перемещения по координате Z обеспечивает мягкое касание при монтаже кристаллов из материалов соединений типа AIIIBV.

 

Кинематическая производительность 2000 крист./час
Размер присоединяемы кристаллов от 0.4×0.4 до 10×10 мм
Минимальная высота кристаллов 0,1 мм
Количество инструментов захвата кристаллов 8
Воспроизводимость позиционирования координатных столов по координатным Х, У 5 мкм
Рабочее поле перемещения координатного стола 400×200 мм
Диапазон регулирования усилия сжатия соединяемых элементов от 0.8 до 5.0 Н
Диапазон регулирования температуры нагрева рабочих зон нагреваемого рабочего столика (отдельно для каждой зоны) от 20 до 450°С
Погрешность позиционирования револьверной головки по координате Z в диапазоне перемещения от 0 до 9 мм ± 0.05 мм
Погрешность присоединения кристаллов:
- по координате Х,Y ± 0.055 мм
- по углу ±5°
Потребляемая электрическая мощность не более 0.5 кВт
Габаритные размеры:
Длина 790 мм
Ширина 780 мм
Высота 500 мм

English version
ПЛАНАР
Открытое акционерное общество «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование