Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах

Многоканальные лазерные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования топологических структур на пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов
ЭМ-4485
ЭМ-4485-1
ЭМ-4485-2
ЭМ-4485-К
ЭМ-4105M
ЭМ-4085-14М
ЭМ-4025АМ3
ЭМ-4075А-1

Монтаж выводов

Герметизация

Поверхностный монтаж

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Установка присоединения кристаллов ЭМ-4025АМ3


Установка присоединения кристаллов ЭМ-4025АМ3 предназначена для монтажа полупроводниковых кристаллов и компонентов методом эвтектической пайки, монтажа на клей и припой при сборке ИС, ГИС, диодных и транзисторных матриц, СВЧ-приборов и других многокристальных приборов.

Установка оснащена 8-инструментальной револьверной головкой, нагреваемым рабочим столом с двумя зонами нагрева, пневмодозатором для нанесения клея. Привод вертикального перемещения по координате Z обеспечивает мягкое касание при монтаже кристаллов из материалов соединений типа AIIIBV.

Установка может работать как в автоматическом, так и в полуавтоматическом режиме, если для прецизионной сборки требуется совмещение с использованием манипулятора. Программное управление обеспечивает возможность программирования технологических параметров для каждого кристалла (положение по X-Y-Z, номер инструмента, время задержки и время вибрации, амплитуда и частота вибрации, режим нанесения эпоксида, рисунок эпоксида и доза).

Большая номенклатура носителей кристаллов и компонентов позволяет создать исполнение установки в соответствии с Вашими потребностями.

Технические характеристики:

Кинематическая производительность 2000 кристаллов/ч
Размеры присоединяемых кристаллов от 0,4x0,4 до 20x20 мм
Рабочее поле перемещения координатного стола 400x200 мм
Температура нагрева рабочего стола от 50 до 450ºС
Вакуум 30 кПа
Сжатый воздух 0,5 МПа – 0,8 м3
Электропитание и потребляемая мощность 220 В, 50 Гц, 0,6 кВт
Габаритные размеры 790x750x500 мм
Масса 80 кг

English version
ПЛАНАР
Государственное научно-производственное объединение точного машиностроения «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование