Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования и контроля топологических структур на фотошаблонах

Прецизионные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Генератор изображений на полупроводниковых пластинах

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы
ЭМ-2048А
ЭМ-2058
ЭМ-2115
ЭМ-2085В
ЭМ-225М
ЭМ-3027А
DAR6
DAR9
DAR10
ДАР9Н

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Cварка пластин

Предзащита ИС

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Установка отмывки полупроводниковых пластин ЭМ-3027А


Установка отмывки сверхтонких пластин ЭМ-3027А предназначена для мойки струей воды, смешанной с воздухом, и сушки пластин после резки ее на кристаллы.

Программируемый режим перемещения сопла высокого давления позволяет осуществлять качественную очистку широкого диапазона типоразмеров кристаллов.

Для вытяжки тумана, образующегося при ударе струи высокого давления об очищаемую поверхность, в конструкции установки предусмотрен патрубок, который присоединяется к цеховой вентиляционной вытяжке.

 

Технические характеристики

Максимальный диаметр обрабатываемых пластин 200 мм
Диапазон задания времени очистки от 10 до 150 с
Диапазон задания времени сушки от 10 до 150 с
Частота вращения центрифуги от 500 до 3000 об/мин
Давление сжатого воздуха от 0,5 до 0,6 МПа
Расход сжатого воздуха, max 3,0 м3/ч
Давление деионизованной воды от 0,2 до 0,3 МПа
Расход деионизованной воды, max 100 л/ч
Вакуумная магистраль с остаточным давлением 0,4 МПа
Электропитание и потребляемая мощность 230 В, 50 Гц, 1,2 кВт
Габаритные размеры 600х500х1250 мм
Масса, не более 100 кг

English version
ПЛАНАР
Открытое акционерное общество «Планар»
Поиск по сайту
 
Выберите модель


Другие модели этого раздела.

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.redgraphic.com Дизайн и
программирование