Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах

Многоканальные лазерные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах
ЭМ-5001Б
ЭМ-5131

Фотоповторители

Оборудование для формирования топологических структур на пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Герметизация

Поверхностный монтаж

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Лазерное устранение дефектов на шаблонах


Установки лазерного устранения дефектов фотошаблонов предназначены для ремонта фотошаблонов, имеющих прозрачные и непрозрачные дефекты, и, имеющих различные типы маскирующих покрытий. Для ремонта непрозрачных дефектов используется контурно-проекционный метод формирования оптического изображения. Для ремонта прозрачных дефектов используется метод лазерностимулированного осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически на основе файлов дефектов.

Модельный ряд установок лазерного устранения дефектов оригиналов топологии на фотошаблонах, разработанных и освоенных на предприятии, представлен в таблице.

Выпуск с 2009г. 6 поколение: уровень технологии 90 нм ЭМ-5131 Rmin=200 нм
Выпуск с 2007г. 5 поколение: LCD (поле 900х600 нм) ЭМ-5201 Rmin=500 нм 
Выпуск с 2001г. 4 поколение: уровень технологии 350 нм ЭМ-5001Б Rmin=500 нм 
Выпуск с 1995г. 3 поколение: уровень технологии 800 нм ЭМ-5001АМ Rmin=1.1 мкм 
Выпуск с 1990г. 2 поколение: уровень технологии 1.5 мкм ЭМ-5001А Rmin=1.5 мкм 
Выпуск с 1990г. 1 поколение: уровень технологии 2.0 мкм  ЭМ-551Б Rmin=2.0 мкм

ЭМ-5001Б

Установка предназначена для ремонта фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров и т. д.
Ретушь дефектов осуществляется посредством лазерно-стимулированного осаждения металлоорганического соединения из газообразной фазы. В качестве источника излучения используется непрерывный аргоновый лазер.
Непрозрачные дефекты устраняются путем испарения остатков хрома при помощи импульсного лазера

ЭМ-5131

Установка предназначена для ремонта фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров и т. д.
Ретушь дефектов осуществляется посредством лазерно-стимулированного осаждения металлоорганического соединения из газообразной фазы. В качестве источника излучения используется непрерывный твердотельный лазер.
Непрозрачные дефекты устраняются путем испарения остатков хрома при помощи импульсного фемтосекундного лазера.


English version
ПЛАНАР
Государственное научно-производственное объединение точного машиностроения «Планар»
Поиск по сайту
 

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.rg.by Дизайн и
программирование