Карта сайта

Контакт

Обратная связь

Полезные ссылки

Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах

Многоканальные лазерные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

ЭМ-6029Б

ЭМ-6329

ЭМ-6729

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования топологических структур на пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Автоматический контроль фотошаблонов

Главная › Продукция › Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах › Автоматический контроль фотошаблонов

Контроль топологических рисунков имеет решающее значение в полупроводниковом производстве. Для этого применяются как отдельные микроскопы, так и мощные оптические системы для субмикронных структур. УП “КБТЭМ-ОМО” разработан модельный ряд установок автоматического контроля оригиналов топологии на фотошаблонах. Создание систем для уровня технологии 45-60 нм стало ответом на новейшие требования времени.

Выпуск с 2009г.	7 поколение: уровень технологии 65-45 нм	ЭМ-6729 Rmin=65 нм
Выпуск с 2008г.	6 поколение: уровень технологии 110 нм	ЭМ-6329Б Rmin=150 нм
Выпуск с 2006г.	5 поколение: уровень технологии 180 нм	ЭМ-6329 Rmin=250 нм
Выпуск с 2001г.	4 поколение: уровень технологии 350 нм	ЭМ-6029Б Rmin=500 нм
Выпуск с 1995г.	3 поколение: уровень технологии 800 нм	ЭМ-6029АМ Rmin=800 нм
Выпуск с 1991г.	2 поколение: уровень технологии 1.0 мкм	ЭМ-6029А Rmin=1.0 мкм
Выпуск с 1987г.	1 поколение: уровень технологии 1.5 мкм	ЭМ-6029 Rmin=1.5 мкм

ЭМ-6029Б

Установка ЭМ-6029Б предназначена для автоматического контроля первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров и т. д.
Автоматический контроль дефектов осуществляется методом сравнения изображения, полученного с фотошаблона в проходящем свете, с искусственным (эталонным) изображением, генерируемым из проектных данных.
После завершения автоматического контроля дефекты могут быть предъявлены оператору в бинокулярном микроскопе и на экране дисплея.

ЭМ-6329

Установка ЭМ-6329 предназначена для автоматического контроля первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров, полутоновые дефекты и т. д.
Автоматический контроль дефектов осуществляется методом сравнения изображения, полученного с фотошаблона в проходящем свете, с искусственным (эталонным) изображением, генерируемым из проектных данных. После завершения автоматического контроля дефекты могут быть предъявлены оператору на экране дисплея.

ЭМ-6729

Установка ЭМ-6729 является суперсовременной разработкой для технологий уровня 65-45 нм.

Установка осуществляет автоматический контроль первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты. Методы контроля:
- сравнение с проектными данными (die-to-database);
- сравнение в проходящем и отраженном свете (StarLight)
Предъявление дефектов оператору в проходящем и отраженном свете на экране монитора, возможность классификации дефектов

English version

Государственное научно-производственное объединение точного машиностроения «Планар»

Дизайн и
программирование