Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах

Многоканальные лазерные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения
ЭМ-5109
ЭМ-5009БМ
ЭМ-5009М

Автоматический контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования топологических структур на пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Герметизация

Поверхностный монтаж

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Лазерные генераторы изображения


Этот модельный ряд лазерных генераторов изображений разработан УП “КБТЭМ-ОМО” для специальных приложений в полупроводниковом производстве. Генераторы построены по принципу формирования изображения микрофотонабором и конструктивно являются одноканальными.

ЭМ-5109

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве  интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производственных, так и  в научно - исследовательских и учебных целях.
Изображение формируется по принципу микрофотонабора. В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337 нм, длительностью светового импульса 6...8нс и рабочей частотой до 1кГц.
Мощность лазера 240мВт. Установка оснащена системой совмещения

ЭМ-5009БМ

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов, как в
производственных, так и для научно - исследовательских и учебных целях.
Изображение формируется по принципу микрофотонабора. В системе экспонирования
генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337нм, длительностью светового импульса 6-8нс и рабочей  частотой до 1 кГц. Мощность лазера 240мВт

ЭМ-5009М

Генератор ЭМ-5009М предназначен для изготовления эмульсионных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, ЖК- индикаторов и экранов, как в производственных, так и в научно-исследовательских и учебных целях. Изображение формируется по принципу микрофотонабора. В системе экспонирования генератора используется осветитель на базе двух импульсных ламп.


English version
ПЛАНАР
Государственное научно-производственное объединение точного машиностроения «Планар»
Поиск по сайту
 

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.rg.by Дизайн и
программирование