Оборудование, обеспечивающее проведение контрольных операций, характеризуется большим многообразием и существенно различается по степени сложности: от простых установок визуального контроля для массового производства до сложнейших автоматических контрольных и измерительных комплексов, используемых как при разработке и исследованиях новых технологий и приборов в микроэлектронике, так и в серийном производстве.
Установка предназначена для измерения интерферометрическим методом отклонений от плоскости рабочей поверхности полированных, без фоторезиста и элементов топологии интегральных схем полупроводниковых пластин, которые находятся в выпрямленном состоянии
Установка ЭМ-6479 предназначена для контроля загрязнений поверхности полупроводниковых пластин без топологии и позволяет выполнять как операции финишного контроля на предприятиях-изготовителях полупроводниковых пластин, так и операции входного контроля в кристальном производстве. В установке реализован принцип оптического концентратора, а также принцип сканирования в полярных координатах.
