Главная   Карта сайта   Контакт   Обратная связь   Полезные ссылки  
Об объединении Продукция Услуги Разработки Поддержка


Оборудование для формирования топологических структур на фотошаблонах

Многоканальные лазерные генераторы изображений

Лазерные генераторы изображения

Автоматический контроль фотошаблонов

Лазерное устранение дефектов на шаблонах

Фотоповторители

Оборудование для формирования топологических структур на пластинах

Автоматические установки совмещения и экспонирования

Установки совмещения и экспонирования
ЭМ-5026АM
ЭМ-5026Б
ЭМ-5026М1

Контроль полупроводниковых пластин и подложек

Широкоформатные степперы

Оборудование подготовки кристаллов к сборке

Зондовый контроль

Утонение пластин

Резка пластин на кристаллы

Кассетирование кристаллов

Сборочное оборудование

Монтаж кристаллов

Монтаж выводов

Герметизация

Поверхностный монтаж

Оборудование лазерной обработки

Микроскопия, оптика

Микроскопия

Оптические компоненты

Медицинская техника

Кардиология

Реанимации и интенсивная терапия

Хирургия, травматология

Физиотерапия, неврология

Прессформы, координатные приводы, датчики

Прессформы

Линейные шаговые двигатели

Шаговые двигатели, преобразователи

Установки совмещения и экспонирования


Установки серии ЭМ-5026х предназначены для совмещения изображения на фотошаблоне и полупроводниковой пластине и последующего переноса этого изображения с шаблона на пластину контактным (на зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины при реализации фотолитографических процессов в производстве интегральных схем и полупроводниковых приборов.

Основные особенности установок этой серии:
• специальная система компенсации клина и разнотолщинности пластин;
• специальный трех координатный (Х, Y, Θ) манипулятор п/п пластин с двумя ступенями (грубого и тонкого) совмещения высокой точности и чувствительности;
• возможность работать с пластинами из хрупких материалов, например, из арсенида галия (GaAs) и ниобата лития толщиной 0,2 … 0,8 мм, и подложек прямоугольной формы;
• встроенная система защиты от вибрации.

ЭМ-5026АM

Установка ЭМ-5026АМ предназначена для совмещения изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине и переноса изображения с фотошаблона на пластину контактным (на зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины.
Установка ЭМ-5026АМ имеет автоматические системы: загрузки полупроводниковых пластин из кассеты, центрирования и ориентации по базовому срезу, предварительной точной ориентации загрузки пластины на рабочий столик, компенсации клина и разнотолщинности пластин и выхода на заданный оператором зазор совмещения, экспонирования фоторезистивного слоя на пластине и выгрузки в другую кассету.

ЭМ-5026Б

Установка ЭМ–5026Б выполняет контактным (на зазоре) способом экспонирование верхней стороны полупроводниковой пластины или подложки, совмещая изображение на фотошаблоне с изображением на нижней (обратной) стороне пластины или подложки.
При этом дополнительно возможна оценка точности совмещения знаков и изображений (топологий) на двух сторонах пластины или подложки.

ЭМ-5026М

Ручная установка совмещения и экспонирования предназначена для совмещения изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине и переноса изображения с фотошаблона на пластину

English version
ПЛАНАР
Государственное научно-производственное объединение точного машиностроения «Планар»
Поиск по сайту
 

© 2003 Планар
e-mail: planar@solo.by

www.rg.by Дизайн и
программирование