Установка ЭМ-6729 является суперсовременной разработкой для технологий уровня 65-45 нм.
Установка осуществляет автоматический контроль первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты.
Методы контроля: - сравнение с проектными данными (die-to-database); - сравнение в проходящем и отраженном свете (StarLight)
Предъявление дефектов оператору в проходящем и отраженном свете на экране монитора, возможность классификации дефектов
Более подробную информацию Вы можете найти здесь
