Установка автоматического контроля топологии фотошаблонов ЭМ-6029Б

Установка ЭМ-6029Б предназначена для автоматического контроля первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров и т. д. Автоматический контроль дефектов осуществляется методом сравнения изображения, полученного с фотошаблона в проходящем свете, с искусственным (эталонным) изображением, генерируемым из проектных данных. После завершения автоматического контроля дефекты могут быть предъявлены оператору в бинокулярном микроскопе и на экране дисплея.

Технические характеристики

Минимальный размер обнаруживаемых дефектов 0.5 мкм Время контроля области 100x100 мм 40 мин Время контроля области 100x100 мм с удвоенным пикселом (1.0 мкм) 20 мин Размер рабочего поля 153x153 Дискретность перемещения координатного стола 10 нм Коэффициент увеличения визуального канала 560 Диапазон коррекции размеров элементов эталонного изображения 100 ... 500 нм Диапазон программной фильтрации дефектов 0.5 … 5.0 мкм Максимальная высота рамки пеликла (с каждой стороны шаблона) 8 мм Электропитание и потребляемая мощность 230В, 50Гц, 1.5кВт Масса установки 1200 кг