Лазерный генератор изображений на фотошаблонах ЭМ-5009БМ

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов, как в производственных, так и для научно - исследовательских и учебных целях.

Изображение формируется по принципу микрофотонабора. В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337нм, длительностью светового импульса 6-8нс и рабочей частотой до 1 кГц. Мощность лазера 240мВт.

Технические характеристики

Размеры наборного элемента 2 ... 300 мкм Производительность (на регулярных структурах) 1.5 млн. экспоз/ч Размер поля экспонирования 153x153 мм Дискретность перемещений координатного стола 250 нм Погрешность позиционирования координатного стола ± 250 нм Масштаб проекционного уменьшения 1:20 Дискретность изменения размеров наборного элемента 500 нм Угол поворота наборного элемента 0 … 90° Электропитание и потребляемая мощность 230В, 50Гц, 3кВт Масса установки 1500 кг