Лазерный генератор изображений на фотошаблонах ЭМ-5109

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производственных, так и в научно-исследовательских и учебных целях.

Изображение формируется по принципу микрофотонабора. В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337 нм, длительностью светового импульса 6...8нс и рабочей частотой до 1кГц. Мощность лазера 240мВт. Установка оснащена системой совмещения.

Технические характеристики

Размеры наборного элемента 1...300 мкм Производительность (на регулярных структурах) 1.7 млн. экспоз/ч Размер поля экспонирования 300x300 мм Дискретность перемещений координатного стола 125 нм Погрешность позиционирования координатного стола ± 250 нм Масштаб проекционного уменьшения 1:40 Дискретность изменения размеров наборного элемента 100 нм Угол поворота наборного элемента 0 … 90° Погрешность угла поворота наборного элемента 0.02° Электропитание и потребляемая мощность 230В, 50Гц, 3кВт Масса установки 2300 кг