Автоматическая установка совмещения и мультипликации ЭМ-5084Б

Установка предназначена для совмещения и помодульного экспонирования полупроводниковых пластин при производстве БИС, СБИС и других изделий электронной техники. В основе работы установки лежит способ последовательного переноса (мультипликации) уменьшенного изображения шаблона на, предварительно сфокусированную и совмещенную с плоскостью изображения шаблона, полупроводниковую пластину, ориентированную по специальным знакам совмещения, нанесенным на ее рабочую поверхность.

Технические характеристики

Рабочая длина волны 404 нм Размер минимального элемента 0.8 мкм Масштаб проекционного уменьшения 1:5 Производительность (при диаметре пластин 150 мм) 45 пл/ч Максимальное рабочее поле модуля 16 х 16 мм Погрешность совмещения ± 1 нм Диаметр обрабатываемых пластин 150; 200 мм Размер промежуточных шаблонов 127 х 127 мм Емкость библиотеки ПФО 12 шт Электропитание и потребляемая мощность 230В, 50Гц, 4кВт Масса 2900 кг