Установка ЭМ-5062М предназначена для изготовления металлизированных эталонных и рабочих фотошаблонов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Технические характеристики
Фотографическое разрешение на поле модуля 10x10мм (на структурах линия-промежуток)
1 мкм
Производительность при времени экспонирования 0.5сек, количестве модулей 61, размере модуля 10x10мм, на шаблонах 127x127 мм
30 фотош./ч
Размер рабочего поля
153x153 мм
Масштаб проекционного уменьшения объектива
1:10
Максимальный размер модуля на шаблоне
10x10 мм
Невоспроизводимость размера элемента на структурах линия-промежуток, при ширине линии 1.2 мкм
