Wafer Inspection and Metrology

Automatic Defect Inspection System is designed for automatic inspection of quality of surface of unpatterned semiconductor wafers; minimum size of detectable defect 0.15 μm

Macro Defect Inspection System is designed for visual inspection of macro defects in all production operations of semiconductor wafer processing

System for inspection of semiconductor wafers' unflatness

Ручная установка совмещения и экспонирования предназначена для совмещения изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине и переноса изображения с фотошаблона на пластину